GB/T 11164—1999 真空镀膜设备通用技术条件
Vacuum coating plant generic specification
GB/T 11164—1999 真空镀膜设备通用技术条件标准是对GB/T 11164-1989《真空镀膜设备通用技术条件》进行修订而编制的。
在内容上，对某些技术指标进行了修改.如:B类镀膜设备抽气时间从原来的15,20 min改为10min;增加了升压率指标;并且由于原标准中C类镀膜设备国内已无生产厂生产.在本次标准修订中将C类产品取消。
本标准自实施之日起代替GB/T 11164-1989。
一、范围
GB/T 11164—1999 真空镀膜设备通用技术条件标准规定了真空镀膜设备技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存等。
本标准适用于压力在10-4- 10-3Pa范围的蒸发类、溅射类、离子镀类真空镀膜设备(以下简称设备)
二、引用标准
下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所示版本均为有效，所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。
GB 191-199 包装储运图示标志
GB/T 6070-1995 真空法兰
GB/T 13384-1992 机电产品包装通用技术条件
JB/T 7673-1995 真空设备型号编制方法
三、定义
本标准采用下列定义。
3.1 极限压力
真空系统正常工作时，空载干燥的镀膜室逐渐稳定的最低压力。单位:Pa,
3.2 抽气时间
真空系统正常工作时，将空载干燥的镀膜室从大气压(105Pa)抽到规定的压力所需要的时间。单位:min。
3.3 升压率
将空载干燥的镀膜室连续抽气至稳定的最低压力后，截止抽气，在镀膜室内由于漏气或内部放气所造成的单位时间的升压。单位:Pa/h。
四、技术要求
1 设备正常工作条件
1.1 环境温度:10-30'C.
1.2 相对湿度:不大于75%。
1.3 冷却水进水温度:不高于25'C。
1.4 冷却水质:城市自来水或质量相当的水。
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